二氧化矽拋光液,適用於各種高級表面加工應用:


我們提供的每一種二氧化矽拋光液都是經過嚴格的粒徑控制和專業的加工技術,在高切削率條件下保證加工表面具有較好的CMP拋光效果,部分產品填補了對超高質量拋光液需求的空白,能夠產生用傳統拋光材料無法形成的臨界表面。此產品不能冷凍,建議在5℃以上儲存。

 

產品特性:

  • 加工精度可以達到埃級
  • 劃傷和挖傷可以達到0/0
  • 分散性好、不結晶
  • 粒徑分佈廣泛:5-100nm
  • 具有極高的純度
  • 可以提供不同PH
  • 適合與各種拋光墊、合成材料配合拋光使用
  • PH、粒徑、穩定離子等可以根據客戶定制

 

主要應用:

  • 藍寶石
  • 裸硅片
  • 碳化鈣
  • 鈮酸鋰
  • 砷化镓
  • 碳化矽
  • 不銹鋼

 

主要產品物理特性:

 

產品型號 平均粒径 SiO2含量 PH值 比重 顏色 包裝
Unicol 3530HP 35nm 30% 2.8-3.2 1.20 白色 1加侖、5加侖、55加侖
Unicol 50 50nm 50% 8.5-9.5 1.29 乳白色 1加侖、5加侖、55加侖
Unicol 5530P 55nm 30% 10.6-11.2 1.20 白色 1加侖、5加侖、55加侖
Unicol 5530HP 55nm 30% 2.6-3.6 1.20 白色 1加侖、5加侖、55加侖
Unicol 7540K 75nm 40% 10.85-11.2 1.28 白色 1加侖、5加侖、55加侖
Unicol 7540P 75nm 40% 9.0-10.0 1.28 白色 1加侖、5加侖、55加侖
Unicol 7530K 75nm 30% 10.8-11.2 1.20 白色 1加侖、5加侖、55加侖
Unicol 13530K 135nm 30% 10.6-11.2 1.20 白色 1加侖、5加侖、55加侖